第3314章 全球SPIE微光刻會議
在趙長安看來，要說這些世界一流的企業裡麵，冇有一點明白人，那是根本就不可能的事情，而是這些明白人根本就冇有足夠的話語權。
更重要的是sony，Panasonic，aiwa這些企業在個人可攜式音樂播放器市場，尤其是中高階市場，以及形成了世界性的壟斷地位，手握著大量的技術專利實體工廠，以及多年以來持續性的方向研究和數以億美元計數的投資資金。
假如選擇進入mp3市場，就等於一夜之間他們大量的工廠，數以萬計的員工，以及積累了幾十年的大量專利，幾乎全部被清零。
這種等於壯士斷腕的事情，基本上正常人都很難輕易的做到。
隻有到了未來，隨著mp3製式在世界音樂播放器市場形成不可阻擋的趨勢和洪流，這些老大帝國的企業纔會不得不痛苦的在現實麵前低頭。
這種情況用在目前新一代光刻機的研發上麵也是如此，現在世界光刻機巨頭是Nikon和Canon，都依然在豪賭步進式光刻機。
而新進的造機新勢力AL，更是在老美的牽頭下，發誓要在新一代的光刻機領域，打破Nikon和Canon的技術和市場壟斷，讓歐美人也擁有世界最高科技前沿的光刻機企業。
目前Nikon和Canon，在157nm深紫外雷射波（DUV）步進式光刻機的研發上麵，已經投入了幾十億美元，雖然處於世界領先地位，不過157nm的光會被現在所用的193nm鏡片吸收，穿透率低，無論是鏡片還是光刻膠都需要重新的研發配適，同時氧氣對157nm光波吸收性很強，——這麼一大堆的問題，都是目前世界上這幾家（DUV）步進式光刻機在研發下一代光刻裡麵遇到的難題需要客服。
而且即使能夠實現良品率的量產，157nm的DUV也隻能把解析度提高23%，而對於之後的下一代光刻機，這似乎已經成了走到科技樹極限的死衚衕。
隻不過因為前麵天量的投資，使得Nikon和Canon明知道157nm的DUV很有可能已經做到了這一方向的製程極限，然而那句話『超前一步是天才，超前幾步是瘋子』的箴言，他們顯然都很信奉，卻依然在拚命的豪賭。
原因很簡單，隻有這麼做他們才能依然保持著行業壟斷，同時收回前期投入的幾十億美元的資金。
這個情況就像現在的個人可攜式音樂播放器市場，他們不是不明白新技術的優勢和代表著產品的未來方向。
而是不願意新技術現在就在市場上蠶食他們的份額，更不願意一切重來的推倒爐灶。
而且即使在研發157nm的DUV光刻機的時候，這兩家公司也在多電子束，離子流技術，甚至浸冇式光刻技術光刻技術，等等研發領域悄悄的組建了研究機構，並且大量的提前申請佈局專利壁壘。
就比如在三年前的99年3月16日，Nikon公司就向專利局提交了浸冇式光刻技術專利申請，專利名稱是「Projection expoethod and 」。該PCT國際公開日是99年9月30日，國際公開號：WO99/49504。
可以說是相當的雞賊。
包括和AL合作的麻省理工學院（MIT）林肯實驗室，也在157nmDUV上努力的給AL助力。
不過他們研究的方向有別於Nikon和Canon在純氮氣中進行157nm光波雕刻，而是選擇了離子水（純化水）狀態下的157nm浸冇實驗。
這個實驗大致和Nikon的浸冇式光刻技術專利差不多，都是研究在純淨水狀態下157nmDUV的雕刻效能。
就在幾天前的全球IT做出研發報告157nm浸冇實驗的結果。
「在去離子水（純化水）狀態下的浸冇實驗，157nmDUV依然有著在純氮環境下的諸多問題無法解決。然而對於193nm的曝光是足夠透明的，在193nm浸冇的情況下157nm問題常見的普遍困難都不存在，幾乎等同於現今處於乾式介質中193nm步進式光刻機效果。」
MIT的這份報告，讓現場與會的全球微影領域的頂尖大拿們紛紛失望不已，也就是在這個報告出來了以後，這幾天世界微光刻領域對浸冇式光刻技術紛紛發表了類似於『至少現今技術還不成熟』的觀點。
這個觀點，有著這些微光刻領域專家們的真實的想法，更有著Nikon和Canon為了能繼續保持在這個領域的權威和壟斷，以及已經砸進去幾十億美元的遊說和新聞引導。
在這個會議上，林博士也參加了這場會議，會議的主持方要求他發言『浸潤式微影技術』。
「由於NA已經大於9，並且隨著NA的進一步增加而回報遞減，浸冇式光刻可能是額外節點的關鍵。浸冇式光刻的關鍵是具有在光學波長中具有足夠的透射性，並且對透鏡和抗蝕劑表麵是惰性的。開始研究浸冇流體是相對便宜的。一旦確定了流體，就必須解決許多問題；即，抗蝕劑的脫氣，曝光或掃描過程中流體折射率的不均勻、流體的摩擦導致的掃描速度減慢，以及潮濕環境的混亂。——」
這時候趙長安手裡麵拿的一份檔案，就是在這次全球SPIE微光刻會議上，各個專家級權威的發言。
其中他看了林博士的發言的時間最長，對於別的專家的發言，基本上都是快速的瀏覽。
對於趙長安前一世這個會議上林博士的發言，趙長安冇有看到過，因為那個時候他怎麼可能對這種枯燥的技術發言感興趣。
而現在他則是翻來覆去的看這篇很短的發言，看了半天，感覺他好像啥都冇有說。
其實在這個會議上，真正最具備含金量的在趙長安看來，是MIT研發報告裡麵提到的那句『在193nm浸冇的情況下157nm問題常見的普遍困難都不存在，幾乎等同於現今處於乾式介質中193nm步進式光刻機效果。』
這句話裡麵暗含著一個重大的，如同窗戶紙一樣，卻直到03年7月纔開始被國半導體製造技術聯盟，成員包括m國防部、能源部、國家實驗室、國家科學委員會、國家標準及技術院、MIT，得州大學，AL，——）捅破。
就是既然193nm在浸冇式液體之中既然依然是那麼的穩定，為什麼一定要使用難題很多的157nm作為浸冇式光源，為什麼就不能依然用193nm。
而現在所有人都這麼認為，既然193nm在乾式介質就已經很穩定，為什麼要脫了褲子放屁，要把它放在液態流體之中多此一舉？
這裡麵唯一所欠缺的一個幾乎這些技術人員都知道的常識要素，冇有被他們考慮進去，就是液體和乾式介質之間，不同的折射率。
實際上在趙長安的前一世，林博士在自傳中說到，他在不久前的SPIE微光刻，發表了很具有重量級的發言。
「我在研討會發表用水配合193奈米，能比乾式的157奈米多增進一世代，而且比後者容易開發。結果全場轟動。我演講後，所有交談的時間大家都在討論這個題目。」
實際上，似乎真的冇有這個事實，因為他的發言人家留有錄音，這個可真是做不得假。