第56章 中芯國際的驚嘆！流片成功！
汽車駛入張江高科技園區，最終停在了中芯國際那座戒備森嚴、宛如一座巨大白色堡壘的工廠門前。
經過極其嚴格的安檢和身份核實後，沈楓和唐鑫被請進了一間遮蔽了所有無線電訊號的高階會議室。
沒有任何廢話，唐鑫深吸了一口氣，開啟防爆箱，取出了那塊承載著無數心血的硬碟，遞交給了中芯國際的高階製程工程師。
會議室裡安靜得連一根針掉在地上都能聽見。
幾位頭髮花白的中芯國際技術骨幹，將硬碟接入了內網的一台獨立工作站中，開始進行初步的GDSII資料審閱和可行性評估。
隨著螢幕上那極其複雜、猶如幾千萬座立交橋交織在一起的微觀電路圖層層展開，
幾位工程師的臉色從最初的平靜，逐漸變成了震驚，最後演變成了一麵倒吸涼氣的驚嘆。
“這……這種電源管理晶元的拓撲結構，我從來沒見過！它徹底拋棄了傳統的線性穩壓思路，採用了一種極其高頻的開關動態調節機製！”
一位資深架構師指著螢幕，聲音都有些發抖，
“天才！簡直是天才的設計！如果這套架構能跑通，它的電能轉換效率將達到一個恐怖的閾值，而且發熱量會被壓製在極低的狀態！”
趙偉明雖然不精通底層程式碼，但他太懂得看手下這些技術大拿的反應了。
他轉過頭，看向沈楓的眼神中，少了幾分之前的客套，多了一份真正的敬畏。
“沈總，吳院士沒有誇大其詞。你們匯智科技，真的是給了我們一個大大的驚喜。”
趙偉明深吸了一口氣，將一份已經列印好的合同推到了沈楓麵前。
“這是流片合同。基於你們設計的複雜程度和製程要求，我們採用目前產線上最成熟穩定的製程工藝來進行MPW（多專案晶圓）或者全掩膜流片。
因為是加急插隊，加上掩膜版（Mask）的製造費用，第一次流片的總費用覈算下來，是340萬人民幣。”
趙偉明看著沈楓，語氣變得十分嚴肅：
“沈總，醜話我得說在前麵。流片，在咱們這行被戲稱為‘燒錢的賭場’。
這340萬一旦投下去，光刻機一開，哪怕最後生產出來的晶元因為設計裡的一個微小Bug而無法點亮，這筆錢也一分退不回來，直接打水漂。你們，確定要現在就簽嗎？”
在2016年的購買力下，340萬也絕對不是一個小數，
相當於在魔都靜安區的一套房子了，就為了換回幾片隻有指甲蓋大小的矽片，而且還有極大的失敗概率。
一旦失敗，需要重新修改設計（Debug），再次流片，又要再砸進去幾百萬，甚至上千萬。
歷史上，無數懷揣夢想的晶元初創公司，就是因為承受不住兩三次流片失敗的資金消耗，最終倒閉破產。
麵對趙偉明的警告，沈楓甚至沒有翻看合同的具體條款，直接拿起桌上的簽字筆，龍飛鳳舞地簽下了自己的名字，並蓋上了匯智科技的公章。
“趙總，我今天敢坐在這裡，就證明我們有九成以上的把握。”
沈楓微微一笑，將合同推了回去。
沈楓的底氣，並非盲目自信。
他深知流片的風險，因此在年前，他就讓唐鑫博士進行研究測試。
唐鑫利用自己在中科大（中國科學技術大學）的人脈，在他們國家級先導微電子實驗室裡，
已經利用FPGA（現場可程式設計邏輯閘陣列）進行了無數次的模擬測試和區域性電路的樣片試製。
雖然FPGA不能完全等同於最終的矽基流片，但它已經幫唐鑫排除了99%以上的邏輯錯誤和時序問題。
這340萬，買的不是概率，而是通向勝利的最後一張門票。
“好魄力！”趙偉明讚賞地拍了拍桌子，
“既然沈總這麼痛快，我們中芯國際也絕不含糊。
按照流程，你們的資料還需要進行最後的DRC（設計規則檢查）和LVS（版圖與原理圖一致性檢查），
同時我們要向阿斯麥（A**L）的裝置提交掩膜版的製造資料。”
“十天！”趙偉明伸出兩根手指，“十天後，掩膜版製作完成。你們的晶元，將正式進入晶圓製造的流水線！”
十天的時間，對於沈楓和唐鑫來說，宛如度日如年。
他們住進了中芯國際附近的一家快捷酒店，每天除了在指定區域檢視各項前置檢查的進度外，幾乎寸步不離。
終於，到了第十天的清晨。
趙偉明親自打來電話：
“沈總，唐博士，掩膜版已經就位，晶圓已經送入無塵室。你們的‘孩子’，開始孕育了。”
所謂的流片（Tape-out），對於外行人來說隻是一個辭彙，但對於親歷者而言，那是一場人類向微觀物理極限發起的、最波瀾壯闊的交響樂。
晶元製造的整個流程，是一場極其漫長、極其枯燥，卻又容不得半點沙子的戰爭。
在這座巨大的無塵晶圓廠（Fab）裡，每一粒比頭髮絲還要細小萬倍的灰塵，都可能導致整片晶圓的報廢。
雖然沈楓和唐鑫無法親自進入千級甚至百級的無塵室（黃光區）去觀看，
但唐鑫在酒店裡，閉著眼睛都能向沈楓描繪出裡麵正在發生的一切。
“第一步，晶圓準備與氧化。”
唐鑫在一張白紙上畫著草圖，彷彿進入了某種狂熱的狀態。
一根完美純凈的單晶矽柱被切割成薄薄的矽片（晶圓）。
在高溫氧化爐中，高達1000攝氏度的純凈氧氣與矽片表麵發生化學反應，生長出一層緻密的二氧化矽（SiO2）絕緣層。
這層絕緣層，就像是在大地上鋪設的第一層地基。
“第二步，塗膠（Photoresist Coating）。”
矽片被送入勻膠機，隨著機器的超高速旋轉，一種光敏高分子聚合物——光刻膠，被均勻地塗抹在二氧化矽表麵。
在這個過程中，燈光必須是過濾了紫外線的黃色光源，因為一旦有微弱的雜亂光線照射，光刻膠就會提前發生反應。
“第三步，也是最核心的一步——光刻（Photolithography）！”唐鑫的聲音都在發抖。
那是人類工業史上的奇蹟，阿斯麥（A**L）光刻機發出了深紫外光（DUV）。
光線穿過中芯國際耗費巨資為匯智科技定製的那套“掩膜版”。
掩膜版就像是洗照片的底片，上麵刻滿了唐鑫做出的複雜電路圖形。
光線透過掩膜版上透明的區域，經過極其複雜的光學透鏡組，被成比例縮小，精準地聚焦在矽片的光刻膠上。
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