“陳總高瞻遠矚，在‘渡河專案’剛剛開始時，就說服公司投入重金佈局EDA自研。
並成功收購整合了概倫電子、禾芯科技與我們內部的團隊。
如果沒有這套我們自己的、與聯合體模式深度繫結的EDA工具，特別是早期介入PDK聯合開發的能力，我們的‘聯合體’就像失去神經中樞，根本無法實現如此高效的協同和快速的突破！”
“孟教授的工藝模型，需要EDA來實現模擬；
海思的設計創新，需要EDA來具象化；
製造端的天線效應、熱點問題，需要EDA在設計階段就預警和規避。”
馮庭波總結道，“陳總提供的，不僅僅是一套工具，更是貫穿我們整個晶片創新鏈條的‘數字血脈’和‘決策大腦’！這次14nm風險量產的成功，EDA團隊厥功至偉！”
三塊基石：頂尖的統帥（孟良凡）、創新的模式（聯合體）、自主的工具（EDA）——被清晰勾勒。
在座眾人無不頷首，臉上露出欽佩。
他們深知，在這三線上同時突破並完美融合，需要何等的戰略眼光、資源投入和執行力。
此刻，他們對數年前就開始頂住壓力、默默佈局國產替代的馮庭波、陳默，以及創造出工業奇蹟的孟良凡，敬佩之情油然而生。
介紹完14nm的突破和三大基石後，馮庭波將話語權交給了孟良凡，由這位技術主帥闡述下一步，更為艱巨的作戰計劃。
孟良凡站起身，走到投影前，臉上因激動而泛著紅光，語調高昂：
“感謝庭波總，感謝各位的信任！
14nm風險量產的成功，證明瞭我們道路的正確和華興體係的強大！
但是，戰場形勢瞬息萬變，我們不能有絲毫懈怠！”
他話鋒一轉，操作電腦，展現出清晰的技術演進圖。
“各位，在確保14nm年底規模量產的同時，我們必須立即向下一個戰略高地發起衝鋒——那就是N 1良品率！”
“N 1良品率？”汪劍鋒也來了興趣，身體微微前傾，他不是不懂，而是要引出更深層的討論：
“孟教授，N 1的意義我們都清楚。
但在外部環境持續加壓的背景下，我們選擇N 1這條路，在技術和資源上，麵臨的最大、最具體的‘攔路虎’是什麼？
我們需要集團提供什麼樣的超常規支援？”
這個問題，精準、犀利，直指核心，展現了汪劍鋒作為研發統帥對供應鏈風險和技術瓶頸的深刻洞察。
孟良凡重重點頭，表情變得無比嚴肅，甚至帶著一絲悲壯：
“汪總問到了最關鍵處！我們走N 1這條路，不是最優選，而是唯一選！是被逼出來的血路！”
他深吸一口氣，開始剖析這背後的殘酷現實與技術壁壘：
“首先，我必須再次強調一個冰冷的事實：
沒有EUV光刻機，我們理論上就無法實現與台積電或者五星公司同代競爭的7nm工藝。”
他丟擲了那個讓所有華興人心痛的事實：
“我們曾在2018年，在馮董的全力推動下，歷經艱難談判，成功與A**L簽署了EUV採購合同！”
會議室一片死寂，所有人都知道這個故事，但每次提起，依然感到沉重的無力。
“但是，這台我們已經付款的寄託著我們高階晶片夢想的機器，至今仍因非商業的外部乾預，無法交付！EUV之路，事實上已被封死！
而且，我們的合作夥伴中芯也定了一台，同樣因為外部乾預沒有交貨。”
“砰！”羅朝斌忍不住拍了下桌子，想罵一個馬勒戈壁的。
但臉上怒容一閃而逝，最終化為沉重的嘆息。
“所以，”孟良凡雙手撐在桌麵上，語氣充滿了不甘卻又無比堅定，“我們隻能，也必須，在現有的DUV光刻機上，進行極限操作，走一條無比艱難、但充滿智慧的‘迂迴之路’！這就是N 1、N 2！”
他開始深入解釋N 1工藝的本質和巨大挑戰：
“N 1，本質上是在我們14nmFinFET工藝平台上，通過一係列登峰造極的‘技術魔術’去無限逼近更高製程的效能。當然這裏麵的核心就是多重曝光。”
他用了一個形象的比喻：
“這就好比，別人開著裝備了頂級GPS和引擎的越野車（EUV）在平坦大道上飛馳。
而我們，被沒收了關鍵裝備，隻能開著一輛效能不錯的家用轎車（DUV）。
但我們憑藉對地圖的極致研究（物理和工藝理解）和超凡的駕駛技術（多重曝光等複雜工藝），硬是要在一條佈滿巨石和深坑的崎嶇山路上，蹚出一條能到達目的地的通道。”
“代價是什麼？”孟良凡自問自答，語氣沉重。
“代價是工藝步驟複雜度成倍增加，生產週期大幅拉長，初始良率慘不忍睹，以及單個晶片成本的急劇飆升！
代價是在馮總和陳總不遺餘力的配合下，今年3三月把良品率才很勉強得提高到了68%，目前還在艱難爬坡中！
這是一種‘笨’辦法，一種‘苦’辦法！
但，這是我們唯一能掌握能通向自主高階的生命線！”
他看向汪劍鋒，又看向陳默：
“所以，汪總，您問最大的挑戰和需要什麼支援？
挑戰在於，我們需要在工藝、設計、工具鏈三個維度，同時進行極限突破，容不得任何一塊短板！
需要的支援是，集團必須持續給予我們超越常規的耐心、資源和政策傾斜，理解並接受N 1初期在成本和效率上的‘不完美’。”
孟良凡的陳述，將N 1之路的艱難與決絕展現得淋漓盡致。
他將目光投向陳默，眼神中充滿了“神兵利器”的渴求，也帶著並肩作戰的戰友的期待與挑戰。
“陳總，”孟良凡的語氣無比鄭重。
“您也知道N 1的艱難。
這條路，對EDA工具鏈的要求，是顛覆性的。
它要求工具不再是被動適應規則，而是要主動驅動設計、預測製造、賦能工藝！”
他轉向全場，詳細列舉出N 1給EDA帶來的具體、嚴峻的挑戰，每一項都直指核心：
“第一，設計規則的複雜性與強製性。
多重曝光導致設計規則數量爆炸式增長，且規則之間關聯性極強。
EDA工具必須能理解、消化並強製推行這套‘天書’，還能智慧識別和規避規則衝突，否則版圖根本無法製造。”
“第二，模型精度必須逼近物理極限。
在N 1尺度下，量子效應、統計漲落效應凸顯。
我們需要原子級精度的器件模型，需要電-熱-力多物理場耦合模擬平台。
模型失之毫釐，流片結果可能謬以千裡！”
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