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第198章 國產EUV光源突破

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華夏芯穀EUV光源實驗室的恆溫車間裡,空氣彷彿被持續數年的高壓凝成了固態。

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巨大的二氧化碳雷射器陣列占據了半個廠房,發出低沉的嗡鳴,如同蟄伏的巨獸。

核心測試區的觀察窗後,金秉洙博士雙手緊握護欄,指節因用力而泛白,佈滿血絲的眼睛死死盯著主控螢幕上那條代表著生命線的綠色曲線,EUV光源實時功率穩定度,此刻正頑強地停留在97.2%。

距離量產要求的98%僅一步之遙,這一步,卻如同天塹。

「徐教授,情況不樂觀!」

一位年輕工程師快步走到徐文淵身邊,遞上最新的檢測報告,聲音帶著焦慮,

「連續執行四小時後,錫滴發生器噴嘴的錸銥鉭合金錶麵,出現了微觀裂紋!錫滴噴射均勻度正在下降,等離子體穩定性受到影響!」

徐文淵接過報告,目光銳利地掃過掃描電鏡影象上那些如同蛛網般蔓延的細微裂紋。

這位材料學泰鬥眉頭緊鎖:

「我們目前的錸銥鉭合金,抗疲勞強度已是國內頂尖,但EUV光源的環境太苛刻了,每秒數萬次雷射轟擊,瞬時溫度超兩萬度,這對任何材料都是極限考驗。而且……」

他頓了頓,語氣沉重,

「我們通過特殊渠道獲取的高純度錸金屬即將耗儘,後續批次國產錸的純度,恐怕難以維持現有效能。」

林薇站在一旁,臉色凝重。

阿斯莫的封鎖不僅限於整機,已蔓延至核心材料和部件。

「金博士,能否調整雷射引數?適當降低峰值功率,延長脈衝寬度,或許能減輕衝擊?」

林薇提出設想。

金秉洙緩緩搖頭,語氣透著疲憊:

「我們試過了。能量一旦降低,EUV輸出功率就無法滿足14nm工藝的光強需求。這是一個死迴圈,保效能,損部件;保部件,失效能。」

他看了一眼螢幕旁倒計時的紅色數字,

「距離『天權5號』預定的流片視窗,隻剩兩週了。」

實驗室裡一片死寂,隻有裝置執行的嗡鳴,像是在為倒計時敲響喪鐘。

就在這時,陳醒的身影出現在實驗室門口。

他剛結束與「泛非專案」團隊的跨洋會議,臉上帶著旅途的疲憊,但眼神依舊清明銳利。

他冇有寒暄,徑直走到主控屏前,默默觀察了十分鐘那條起伏不定的曲線。

「問題的核心,是材料極限與能量平衡的矛盾。」

陳醒的聲音打破了沉寂,清晰而冷靜,

「我們不能在現有框架裡打轉,必須尋找新的突破點。徐教授,合金配方還有優化空間嗎?比如引入新的元素,或者採用表層防護技術?」

陳醒的話讓徐文淵眼中一亮:

「常規的合金強化路徑我們已走到瓶頸。但如果採用原子層沉積技術,在噴嘴關鍵區域鍍上一層奈米級的特殊保護膜,或許能極大延緩裂紋產生!隻是這需要定製專用裝置,工藝難度極高,時間……」

「裝置和人,我來協調!不惜一切代價!」

陳醒果斷拍板,隨即看向金秉洙,

「金博士,雷射轟擊方式能否改變?既然單點衝擊力過大,能否將一束光,分而治之?」

「分而治之?」

金秉洙微微一怔,隨即瞳孔收縮,

「您是說……採用微透鏡陣列,將主雷射束分割成多個子束,實現多點同步轟擊?」

「冇錯!分散衝擊力,但保持總能量不變!甚至可能讓錫滴汽化更均勻,提升等離子體穩定性!」

陳醒的思維極具跳躍性。

這個大膽的構想,如同在黑暗的迷宮中點亮了一盞燈!實驗室的氣氛瞬間被啟用!

新的攻堅方向迅速確立。徐文淵團隊立刻轉向原子層沉積保護膜的研發與工藝驗證,林薇協調國內頂尖精密製造企業,日夜趕製專用裝置。

金秉洙團隊則全力投入到微透鏡陣列的光路設計、控製演演算法重寫以及與光學供應商的緊急協同中。

時間以小時為單位流逝。挑戰層出不窮。保護膜的厚度控製精度要求達到原子級別,過厚影響噴射,過薄則毫無作用;微透鏡陣列的加工一致性要求極高,子束的能量均衡性除錯更是繁瑣到了極致。

團隊成員們幾乎住在實驗室,速食麵箱子堆成了小山,每個人的眼窩都深陷下去,但眼神中的火焰卻從未熄滅。這是一場與時間、與物理極限的賽跑。

七天後,首個整合了奈米保護膜和新式微透鏡陣列的優化版錫滴發生器,被小心翼翼地安裝到位。

裝置啟動。雷射束通過佈滿微小透鏡的陣列,瞬間被分解成十六道更細的光束,如同精準的外科手術刀,從不同角度同步轟擊在錫滴上。

主控螢幕上,那條原本總是帶著細微抖動的綠色曲線,陡然間變得前所未有的平滑!

「功率穩定度……97.8%!」

操作員的聲音因激動而變調,

「錫滴均勻度提升18%!初步預估噴嘴磨損速度下降超過35%!」

實驗室裡爆發出壓抑的歡呼!但冇有人放鬆,這還不是最終勝利。

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徐文淵團隊根據初步資料,連夜微調保護膜成分與厚度。

金秉洙團隊則對十六個子束的能量配比進行精細化雕琢。

三天後,最終測試啟動。

當裝置穩定執行一小時後,穩定度曲線穩穩定格在98.3%!連續八小時耐力測試結束,資料顯示:穩定度維持在98.1%至98.5%之間波動,衰減遠低於0.5%的生死線!

成功了!

這一刻,實驗室沸騰了!年輕的工程師們相擁而泣,年長的研究員們則紅著眼眶,用力拍打著彼此的肩膀。

金秉洙與徐文淵兩位教授緊緊握手,一切儘在不言中。數年心血,無數不眠之夜,終於換來了這打破壟斷、自主可控的「華夏之光」!

林薇第一時間將捷報傳回深城。

陳醒正在主持「天機雲」的海外架構評審會,接到訊息,他立刻暫停會議,深吸一口氣,強壓下心中的澎湃:

「立刻組織最終驗收,確保萬無一失!通知章宸和梁誌遠,『天權5號』14nm流片,按原計劃,準時啟動!」

然而,成功的喜悅還未散去,周明的加密通訊接了進來,帶來了凜冽的寒意:

「陳總,阿斯莫通過其在歐洲的盟友,已經探測到我們的EUV光源突破。他們正在華盛頓緊急遊說,試圖將我們的EUV相關技術全部納入管製清單。同時,寶積電也可能迫於壓力,限製我們在先進封裝技術上的合作。」

陳醒的眼神瞬間銳利如刀。封鎖,從未停止,隻會變本加厲。

「意料之中。」

陳醒語氣冰冷,

「周明,密切監視,聯合一切可以聯合的力量,做好法律和外交層麵的應對。林薇,EUV整機整合專案立刻提速!同時,啟動下一代更高功率、更高穩定度EUV光源的預研,目標直指未來更先進的製程!」

當天下午,華夏芯穀舉行了一場簡樸而鄭重的內部慶功會。

冇有鮮花綵帶,隻有清茶一杯。陳醒看著台下這些麵容憔悴卻目光堅定的「追光者」,心潮起伏。

「同誌們,EUV光源的突破,是我們『追光計劃』的一座裡程碑!它證明瞭,冇有什麼技術壁壘是不可打破的!」

他的聲音在車間裡迴蕩,

「但這,僅僅是開始!接下來,14nm流片是檢驗我們成果的關鍵一役,EUV整機的自主整合是下一個必須攻克的堡壘!前路註定荊棘密佈,但我相信,手握『華夏之光』的我們,必將一往無前!」

慶功會結束的哨音,也是下一場戰役衝鋒的號角。

章宸團隊開始對「天權5號」的最終流片資料做最後一遍校驗。

梁誌遠則帶領工藝團隊,在14nm實驗線上進行著流片前的最後一次全流程工藝模擬。

然而,就在流片啟動前夜的最終評審會上,梁誌遠指著一組資料,眉頭緊鎖:

「陳總,我們發現14nm FinFET電晶體的閾值電壓均勻性,在不同晶圓區域還有奈米級別的差異。雖然目前在規格範圍內,但可能會影響最終晶片的極致效能和良率上限。」

所有人的目光再次聚焦到陳醒身上。

陳醒冇有絲毫遲疑,目光掃過梁誌遠和章宸:

「成立臨時攻堅組!梁誌遠,你負責工藝端,哪怕把工藝視窗再縮小一奈米,也要把均勻性給我提上來!章宸,你從設計端配合,看看能否通過設計-工藝協同優化,補償這部分波動!流片計劃不變,我們要用最完美的狀態,迎接這場『大考』!」

夜色深沉,華夏芯穀的晶圓廠內依舊燈火通明。

EUV光源的成功突破,為這片寂靜的戰場投下了最耀眼的光束。

而一場決定「天權5號」命運,乃至未來科技先進位程未來的流片之戰,已進入最後的讀秒階段。

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